Hellma  CaF 2氟化鈣用于紫外的光學材料

CaF 2用于紫外/可見光/紅外應(yīng)用的光學材料

Hellma Materials CaF 2 多年來一直被用作半導體生產(chǎn)微光刻中的光學關(guān)鍵材料。CaF 2 被確立為投影和照明光學器件中準分子激光光學器件的行業(yè)標準材料。CaF 2的光學特性可實現(xiàn)各種高級應(yīng)用。

應(yīng)用領(lǐng)域

由于其好的光學質(zhì)量以及在紫外、可見光和紅外光譜范圍內(nèi)出色的透射率

Hellma Materials CaF 2 可用于多種應(yīng)用：

紅外光學器件

天文儀器光學

天基光學

顯微鏡光學器件

光譜光學

紫外光學

激光窗

準分子激光光學

微光刻光學

氟化鈣單晶由高純度原材料生長而成，是 248 和 193 nm 微光刻技術(shù)中照明和投影光學所需的材料。Hellma Materials 的專業(yè)知識允許制造直徑高達 440 毫米、厚度超過 100 毫米且最高厚度的 CaF 毛坯。傳輸波長低至 157 nm。

主要質(zhì)量特性包括： 

優(yōu)異的紫外線透射率 

高激光耐久性 

低應(yīng)力雙折射 

高折射率均勻性

優(yōu)點

Hellma Materials 的Lithotec ® CaF 2具有奇特的光學特性：

從深紫外到紅外（130nm 到 8μm）的高寬帶透射率

低折射率（n d  = 1.43384）

低光譜色散 (v d  = 95.23)

準分子激光光學元件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性

合格的抗高能粒子和輻射能力

直徑可達 420 毫米

CaF 具有高的激光耐久性，使其成為光刻準分子激光光學器件、光束傳輸以及各種其他應(yīng)用中所有準分子波長的首要選擇材料。

合成氟化鈣晶體完善了從 VUV 到 IR 的光學材料應(yīng)用范圍，在 130 nm 到 9 pm 范圍內(nèi)具有非常好的透射率。

氟化鈣色校正光學系統(tǒng)在天文學、攝影、HDTV 變焦鏡頭中也能實現(xiàn)光學性能的優(yōu)勢。如在顯微鏡中，進一步的應(yīng)用是傳感器（尤其是紅外光譜）、光譜儀和醫(yī)用激光器。

Hellma Materials 提供具有不同晶體取向 [<111>、<100>、隨機或其他要求] 的 CaF、組件和毛坯，以及不同的表面質(zhì)量（原始、切割研磨或拋光），具體取決于個人要求。

Hellma  CaF 2氟化鈣用于紫外的光學材料